L'equip de disseny de Samsung en el cas dels últims models insígnia Galaxy L'S9 i l'S9+ no van fer cap canvi de disseny significatiu en comparació amb la generació de l'any passat. Ni tan sols va intentar imitar la competència iPhone X. No obstant això, segons una patent que Samsung va obtenir fa uns dies, el seu dispositiu podria assemblar-se a un telèfon Apple en el futur. Ets un Samsung patentat el primer clon de l'iPhone X, és a dir, un telèfon intel·ligent amb un retall a la part superior de la pantalla.
Usuaris de telèfons intel·ligents amb Androides divideixen en dos camps quan es tracta d'opinions sobre el retall de la part superior de la pantalla. Mentre alguns es burlen Apple a causa del disseny especial de l'iPhone X, altres compren el dispositiu amb Androidsón semblants en aparença al darrer telèfon intel·ligent d'Apple. I sembla que el segon camp esmentat podria trobar el telèfon ideal en el futur a l'oferta de Samsung. Ha sol·licitat una patent per a un telèfon intel·ligent que sembla que s'ha caigut un iPhone X de l'ull. Té un marc extremadament prim al voltant de tota la pantalla, mentre que a la part superior hi ha aquest element distractor, és a dir, el retall en el qual es troba la pantalla. es col·loquen els sensors i la càmera frontal.
Tanmateix, a diferència de l'iPhone X, el telèfon intel·ligent de Samsung té una pantalla corba. Té una càmera dual a la part posterior, però no es troba cap lector d'empremtes digitals als models Galaxy S9 a Galaxy S9+. I el més important, encara té una presa d'auriculars de 3,5 mm.
Tanmateix, hem de tenir en compte que només es tracta d'una il·lustració d'una sol·licitud de patent, no del disseny exacte del futur telèfon intel·ligent de Samsung, per la qual cosa no hauríem d'esperar que el vaixell insígnia que la companyia sortirà l'any vinent sembli exactament a la imatge. De qualsevol manera, la patent indica clarament que a Corea del Sud estan buscant una manera de minimitzar els bisells per sobre i per sota de la pantalla.
